Toshiba сообщила свой план развития подразделения по производству компьютерной памяти на несколько ближайших лет, пишет КО.
В следующем году производитель планирует полностью перейти на 15-нанометровую производственную технологию, которую компания освоила в этом году. После этого начнется внедрение технологии bit cost scalable (BiCS) с объемной компоновкой ячеек. Серийное производство BiCS-памяти начнется в 2016 г. и для него возможно будет использована нанопечатная литография.
На следующем этапе ожидается дальнейшее уменьшение технологических норм для чего может быть использована технология литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Это позволит увеличить плотность хранения как за счет использования 3D-компоновки, так и благодаря уменьшению размеров ячеек.
Примерно к 2020 г. компания прогнозирует необходимость перехода на новую производственную технологию для повышения производительности и емкости чипов памяти. На данный момент Toshiba рассматривает два кандидата на эту роль: резистивная память с произвольным доступом (ReRAM) и ионная память. Предполагается, что к тому времени будет освоен 10 нм техпроцесс.